SENTECH - 德国 SENTECH测量仪器及等离子体设备研发生产的高科技公司
德国Sentech Instruments GmbH 公司的所有产品，该公司位于德国首都柏林，是一家从事薄膜测量仪器和等离子体设备研发、生产的高科技公司。SENTECH公司生产的各种等离子体刻蚀、沉积设备具有高刻蚀率、低损伤、低温、高均匀度、沉积速度快等特点，广泛地用于半导体、微系统、有机薄膜等领域。SENTECH - 德国 SENTECH测量仪器及等离子体设备研发生产的高科技公司
SENTECH公司致力于发展薄膜测量技术（光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪）和等离子加工技术（等离子刻蚀、沉积系统，定制解决方案），专业研发、制造、销售相关仪器和设备。SENTECH - 德国 SENTECH测量仪器及等离子体设备研发生产的高科技公司.
SAILSORS过程仪表
激光椭偏仪
SE 400adv , SE 500adv -激光椭偏仪，多角度入射，先进的硬件和软件能够对薄膜厚度和光学常数进行比较精确的测量，可分析单层膜和多层膜。
SE 800是采用快速二极管阵列探测器的高性能光谱椭偏仪，在紫外/可见光范围内兼具快速数据采集速度和全光谱范围分辨率。
光谱椭偏仪SE 800适用于复杂应用，比如测量玻璃上的透明薄膜，发光体和半导体聚合物薄膜，吸收/透明基底上的多层膜，窗材料的减反射膜，先进的微电子应用比如SOI，高k值和低k值材料。各向异性样品和非均匀样品也能够被分析。SENTECH - 德国 SENTECH测量仪器及等离子体设备研发生产的高科技公司
光谱椭偏仪 SE 800 特征
·步进扫描分析器工作方式，对较低光强也同样有效
·消色差补偿器在整个0-360度范围内都可极准确和精确地测量出椭偏角度。能够分析偏振因数和补偿退偏效应
·起偏器跟踪技术可以为每一种应用都提供比较高的测量精度
·自动对准镜用于样品倾斜度调节，显微镜用于样品高度调节，能够提供比较高的样品对准精度
·高稳定性的操作，所有硬件操作由其内置的微控制器分别控制，基于Windows XP系统的比较新型电脑
·SpectraRay II – 功能强大的光谱椭偏仪软件
主要应用
·测量单层膜或多层膜的厚度和折射率
·在紫外-可见光波段测量材料的光学性质
·测量厚度梯度
·测量膜表面和界面间的粗糙程度
·确定材料成分
·分析薄金属膜
·分析各向异性材料和薄膜
·CER – 结合椭偏测量和反射测量
·CET – 结合椭偏测量和透射测量
选项
·紫外扩展选项 280 - 850 nm
·计算机控制角度计，40º-90º, 可选 20º-90º ，精度0.01º
·手动x-y载物台，150 mm行程
·
电机驱动x-y载物台，行程50 mm - 200 mm
·MWAFER- SENTECH地貌图扫描软件
·透射测量样品夹具
·摄象头选项，用于样品对准和表面检测
·液体膜测量单元
·反射式膜厚仪FTPadvanced, 光斑直径80微米
·微细光斑选项，光斑直径200微米，可选: 100微米
·自动对焦选项，结合地貌图扫描选项
·SENTECH标准样片
·附加许可，使SpectrRay II软件可以用于多台电脑
代表型号：
SI500
、SI500PPD
、SE400advanced、SE500advanced、SE 900-50、SENDURO、SENresearch、Reflectometer RM、Etchlab200、SI100.
